| IP명 | CMOS 구동 회로와 모놀리식하게 집적된 가시광대역의 가변형 반사식 메타렌즈 | ||
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| Category | Mixed | Application | device |
| 실설계면적 | 4㎛ X 4㎛ | 공급 전압 | 12V |
| IP유형 | Hard IP | 동작속도 | 1000Hz |
| 검증단계 | Silicon | 참여공정 | SS28-2101 |
| IP개요 | 28-nm CMOS공정을 이용하여 설계하는 가변형 메타렌즈 (metalens)에 대한 내용이다. 제안하는 메타렌즈는 가시광선 영역(380 – 750 nm)에서 동작하며, 동일 칩에 구현된 CMOS 구동회로들을 통해 변조된다. 메타렌즈는 shallow-trench isolation (STI) 공정으로 칩 상에 제작된 주형 (mold)를 이용하여 연구실에서 자체적으로 진행하는 광-활성화-공정 (optical-activation-process)을 통해 광학적 성질을 획득하게 된다. |
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- 레이아웃 사진 -
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