| 강의제목 | 전력반도체를 위한 반도체공정 | ||||||||||||||||||||||
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| 구분 | 부산대 / 설계강좌 / 초급/중급 / 이론 | ||||||||||||||||||||||
| 강의시간 | 4시간 13분 | 열람기간 | 7일 | ||||||||||||||||||||
| 이용료(일반) | 무료 | 이용료(학생) | 무료 | ||||||||||||||||||||
강의개요집적회로(Integrated Circuit) 제작에 필요한 요소 공정 기술들인 lithography, etching, deposition, ion implant 등의 공정들의 원리와 응용분야에 대하여 학습하고 실제 반도체 소자 제작 공정 전반에 대하여 공부한다. 사전지식일반물리, 일반화학 수준 참고사항2일차 오후 음성 녹음이 되지 않아 동영상 파일에서 제외 시켰습니다. 강의에 참고 부탁드립니다. ※ 이 영상은 저작권법에 의해 보호됩니다. 본 강의 영상의 무단 복제 및 배포를 금지합니다
담당자 연락처
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| 강의자료 |
2.IC 칩 설계를 위한 반도체공정.pdf |
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